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第831章 芯片进展3(2)

件,以补偿euv光刻带来的复杂光学邻近效应;

我们还需要基于大数据的良率预测与优化系统,能在设计阶段就预测出芯片的薄弱环节。

否则,我们设计出来的东西,就像是建立在流沙上的城堡,根本没法在现实的、不完美的工艺里被可靠地制造出来!”

这番尖锐而专业的需求,将所有压力和责任清晰地传递到了陈默和他的eda团队身上。

面对孟良凡几乎一波又一波的挑战和全场聚焦的压力,陈默没有表现出丝毫的慌乱或防御姿态。

他缓缓坐直身体,目光平静地迎向孟良凡,然后扫过全场,最后落在自己面前的电脑上。

“孟教授提出的问题,正是我们eda产品线过去一年,投入超过70%研发资源全力攻坚的方向。

也是我们理解的,打破僵局的关键。”

陈默的声音沉稳有力,显得很自信。

“工具链的升级,对我们而言,不是锦上添花,而是从‘辅助’走向‘驱动’和‘赋能’的战略转变。

下面,我向各位详细同步一下我们的进展。”

他熟练地操控会议室的投影,瞬间切换到了eda产品线的详细技术架构界面。

复杂的软件模块图、算法逻辑图、性能对比柱状图层层展开,如同展开一幅精密的作战地图。

“首先,在数字设计与实现方面,”陈默放大了一个标注着“ai-drivendesign”的区域。

“由钟耀祖负责的‘伏羲’ai驱动设计系统已迭代至3.0版本。

其核心采用了深度强化学习算法,在布局布线(place&route)阶段,能够实现功耗-性能-面积(ppa)的多目标自动联合优化。”

他调出一份详细的内部测试报告投影:

“根据在海思‘猎人’芯片和另一款网络处理器芯片上的全流程试点对比数据,在达成相同时序和功能目标的前提下,‘伏羲’系统可以将芯片面积额外优化5-8%,动态功耗降低10-15%,同时时钟树功耗优化达20%。”

他特意看向姚尘风:

“姚总,这意味着在n+1高昂的成本下,我们可以用更小的芯片面积实现同等功能,直接对冲良率造成的成本劣势;

或者用同样的面积集成更多晶体管来提升性能;

更直接的是,功耗的降低直接转化为手

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