，波长越短，所能实现的分辨率越高。这让euv光刻机能够承担高精度芯片的生产任务。
所以duv虽然能做48nm，但是难度太大了，必须换euv才行。”
赵教授没有说话，他身侧的一位年轻研发人却是说道：“euv光源都被国外公司包圆了，哪里有那么容易给我们用。”
“德国莱卡的镜头、通快的光源、德美日韩的专利技术，是的确被包圆了。
可咱们又不是不可以直接从源头开始换。”罗佳说。
年轻的研发人员冷哼了一声：“说的这么简单，从新研发光源，哪里那么容易。”